Optical and structural properties of silicon oxynitride deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition - IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2010

Optical and structural properties of silicon oxynitride deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition

J. Dupuis
  • Fonction : Auteur
INL - Photovoltaïque
E. Fourmond
INL - Photovoltaïque
CV
D. Ballutaud
  • Fonction : Auteur
Groupe d'Etude de la Matière Condensée
N. Bererd
  • Fonction : Auteur
ACE
M. Lemiti
INL - Photovoltaïque

Résumé

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Dates et versions

in2p3-00734027 , version 1 (10-01-2019)

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Citer

J. Dupuis, E. Fourmond, D. Ballutaud, N. Bererd, M. Lemiti. Optical and structural properties of silicon oxynitride deposited by plasma enhanced chemical vapor deposition. Thin Solid Films, 2010, 519, pp.1325-1333. ⟨10.1016/j.tsf.2010.09.036⟩. ⟨in2p3-00734027⟩

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