Article Dans Une Revue
Applied Physics
Année : 1979
Yvette Heyd : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://in2p3.hal.science/in2p3-00019490
Soumis le : jeudi 31 mai 2001-14:16:18
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:18:11
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : in2p3-00019490 , version 1
Citer
R.O. Bell, M. Toulemonde, P. Siffert. Calculated temperature distribution during laser annealing in silicon and cadmium telluride. Applied Physics, 1979, 19, pp.313-319. ⟨in2p3-00019490⟩
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