Article Dans Une Revue Applied Surface Science Année : 1990

Deposition of SiO$_2$ by reactive excimer laser ablation from a SiO target

Fichier non déposé

Dates et versions

in2p3-00016045 , version 1 (07-06-2000)

Identifiants

  • HAL Id : in2p3-00016045 , version 1

Citer

E. Fogarassy, A. Slaoui, C. Fuchs, J.P. Stoquert. Deposition of SiO$_2$ by reactive excimer laser ablation from a SiO target. Applied Surface Science, 1990, 46, pp.195. ⟨in2p3-00016045⟩
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