Origin of the heat load on a substrate coated in inverted cylindrical magnetron (ICM) - IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules
Communication Dans Un Congrès Année : 2015

Origin of the heat load on a substrate coated in inverted cylindrical magnetron (ICM)

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

Emmanuelle Vernay  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://in2p3.hal.science/in2p3-01245399

Soumis le : jeudi 17 décembre 2015-10:35:31

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:38:47

Fichier non déposé

Dates et versions

in2p3-01245399 , version 1 (17-12-2015)

Identifiants

  • HAL Id : in2p3-01245399 , version 1

Citer

T. Le Coz, M. Mantel, C. Vachey, A. Todoran, A. Bès, et al.. Origin of the heat load on a substrate coated in inverted cylindrical magnetron (ICM). 4th Magneton, Ion Processing & Arc Technologies European Conference, 14th Internation Symposium on Reactive Sputter Deposition (MIATEC 2015), Dec 2015, Paris, France. ⟨in2p3-01245399⟩

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