Reversibility of high-capacity hydride thin films deposited by reactive PAPVD - IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules
Communication Dans Un Congrès Année : 2014

Reversibility of high-capacity hydride thin films deposited by reactive PAPVD

Domaines

Physique des plasmas [physics.plasm-ph]

Emmanuelle Vernay  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://in2p3.hal.science/in2p3-00997080

Soumis le : mardi 27 mai 2014-14:31:25

Dernière modification le : mercredi 18 décembre 2024-09:43:56

Fichier non déposé

Dates et versions

in2p3-00997080 , version 1 (27-05-2014)

Identifiants

  • HAL Id : in2p3-00997080 , version 1

Citer

L. Laversenne, H. Le-Quoc, M. Coste, A. Lacoste. Reversibility of high-capacity hydride thin films deposited by reactive PAPVD. International Discussion on Hydrogen Energy and Applications (idHea), May 2014, Nantes, France. ⟨in2p3-00997080⟩

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