The multi beam sputtering: a new thin film deposition approach - IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules
Communication Dans Un Congrès Année : 2012

The multi beam sputtering: a new thin film deposition approach

Fichier non déposé

Dates et versions

in2p3-00697281 , version 1 (15-05-2012)

Identifiants

  • HAL Id : in2p3-00697281 , version 1

Citer

P. Sortais, J. Médard. The multi beam sputtering: a new thin film deposition approach. 39th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF), Apr 2012, San Diego, United States. ⟨in2p3-00697281⟩
16 Consultations
0 Téléchargements

Partager

More