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Annales de Physique
Year : 1992
Yvette Heyd : Connect in order to contact the contributor
https://in2p3.hal.science/in2p3-00016014
Submitted on : Tuesday, June 6, 2000-2:38:25 PM
Last modification on : Thursday, April 11, 2024-1:18:11 PM
Dates and versions
Identifiers
- HAL Id : in2p3-00016014 , version 1
Cite
C. Fuchs, R. Henck, E. Fogarassy. Reacteur VUV a decharge interne pour le depot en couches minces de silicium amorphe d'oxyde et de nitrure de silicium. Annales de Physique, 1992, 17C1, pp.59-60. ⟨in2p3-00016014⟩
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