Formation of Ni silicide from Ni(Au) films on $^{111}$Si - IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules
Article Dans Une Revue Journal of Applied Physics Année : 1996

Formation of Ni silicide from Ni(Au) films on $^{111}$Si

Dominique Mangelinck
P. Gas
  • Fonction : Auteur
A. Grob
  • Fonction : Auteur
Institut de Recherches Subatomiques
B. Pichaud
  • Fonction : Auteur
O. Thomas
  • Fonction : Auteur

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https://in2p3.hal.science/in2p3-00015166

Soumis le : lundi 27 mars 2000-12:59:38

Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:18:11

Fichier non déposé

Dates et versions

in2p3-00015166 , version 1 (27-03-2000)

Identifiants

  • HAL Id : in2p3-00015166 , version 1

Citer

Dominique Mangelinck, P. Gas, A. Grob, B. Pichaud, O. Thomas. Formation of Ni silicide from Ni(Au) films on $^{111}$Si. Journal of Applied Physics, 1996, 79, pp.4078-4086. ⟨in2p3-00015166⟩

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