High resolution magnetic patterning using focused ion beam irradiation - IN2P3 - Institut national de physique nucléaire et de physique des particules
Article Dans Une Revue Microelectronic Engineering Année : 2000

High resolution magnetic patterning using focused ion beam irradiation

Christophe Vieu
J. Gierk
  • Fonction : Auteur
H. Launois
  • Fonction : Auteur
T. Aign
  • Fonction : Auteur
P. Meyer
  • Fonction : Auteur
J.P. Jamet
  • Fonction : Auteur
J. Ferre
  • Fonction : Auteur
C. Chappert
  • Fonction : Auteur
V. Mather
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

in2p3-00006349 , version 1 (28-09-2000)

Identifiants

  • HAL Id : in2p3-00006349 , version 1

Citer

Christophe Vieu, J. Gierk, H. Launois, T. Aign, P. Meyer, et al.. High resolution magnetic patterning using focused ion beam irradiation. Microelectronic Engineering, 2000, 53, pp.191-194. ⟨in2p3-00006349⟩
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