Article Dans Une Revue
Microelectronic Engineering
Année : 2000
Jocelyne Lorgeril : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://in2p3.hal.science/in2p3-00006349
Soumis le : jeudi 28 septembre 2000-17:08:22
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:18:11
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : in2p3-00006349 , version 1
Citer
Christophe Vieu, J. Gierk, H. Launois, T. Aign, P. Meyer, et al.. High resolution magnetic patterning using focused ion beam irradiation. Microelectronic Engineering, 2000, 53, pp.191-194. ⟨in2p3-00006349⟩
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