Article Dans Une Revue
Solid State Communications
Année : 1986
Sylvie Flores : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://in2p3.hal.science/in2p3-00004091
Soumis le : vendredi 10 mars 2000-08:43:33
Dernière modification le : jeudi 11 avril 2024-13:18:11
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : in2p3-00004091 , version 1
Citer
M. Fallavier, J.-P. Thomas, J.M. Frigerio, J. Rivory. Hydrogen depth profile in sputtered Cu$_x$Zr$_{1-x}$ amorphous alloys studied by nuclear reaction analysis evolution as a function of annealing temperature. Solid State Communications, 1986, 57, pp.59-61. ⟨in2p3-00004091⟩
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